第61章 一个大胆的设想，开启第二次试验（3/3）

米制程，但事实上，浸润式光刻机的实际极限远不止7纳米，只要加大成本，浸润式光刻机可以推进到3纳米甚至2纳米制程。

但这涉及到多重曝光和对准的问题。

打个比方来说，对于一个芯片来而言，原本的电路图案可能有10层，我们可以将其拆分为30层、40层甚至更多层次，通过多次光刻工艺，最终可以实现更高的分辨率。

但这对光刻过程十分严格，每一次光刻过程都要保证准确对准，这是一个极难攻克的点，可以形象地比喻为在一张小纸上拓印一个王字，若直接一次性拓印肯定不行，因为纸太小了。

所以我们要将其分为多次拓印，先拓印一横，慢慢挪动纸，再拓印一横，然后拓印一竖，最终形成一个“干”字，再拓印一横，最终得到“王”字。

“竟然这么简单？！”

曾泉听后，眼睛噌的一下就亮了，眼中精光流转，满脸兴奋和好奇，仿佛触碰到了从未见过的知识点。

事实上，这一观点他也只在陆隐口中听过。

他抬头看着越来越看不清原本面貌的光刻机，心中还有些担忧。

“陆工，你有多大的把握，若是这个设想不成功，这台光刻机可就报废了。”曾泉问道。

陆隐双眼中闪过一丝坚定，“九成吧，行不行两天后就知道了。”

“这次的改装已经进行到了最后的阶段，两天后，将开启第二次试验。”

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