第61章 一个大胆的设想，开启第二次试验（2/3）

的第一天曾泉等人就会忍不住来问，没想到竟然都快改造完成了才来，还挺有耐心。

“是的，我们想问一下陆工你心里是怎么想的？”

曾泉换了一个委婉的说法，“你是不是想到了什么改进的方法？”

他倒不认为陆隐会毁了已经成型的光刻机，结合前几天陆隐的怪异举动，他觉得应该是陆隐想到了什么。

只是最近的动静太大了，不问一下他心里有点不踏实。

陆隐笑了。

“曾老，各位，我知道你们之前一直都疑惑为什么明明已经研发出了2nm光刻机，我还是不满意。”

“因为从一开始，我就没打算研发2nm，我的目标一直都是研发1nm光刻机。”

曾泉本想说2nm光刻机也挺好的，只要发布出去就会解了华国现如今的燃眉之急，但话还没出口，就被陆隐打断。

“对于科研，我从来不是个可以将就的人，1nm光刻机确实是个挑战人类极限的事情，全世界也没有哪个国家能攻克，但别人做不到的，我们可以。”

陆工微微侧身，露出身后主控电脑中的大型光刻机模样，“经过这几天的观察，我已经找到了解决的方法，如今就剩下实践了。”

“陆工，这是……”曾泉盯着看了一下，有些看不明白，但心中又好像有什么东西一闪而过，只是闪得太快，他有些抓不住。

就连曾泉都一知半解，其他几人更是一头雾水。

知道复杂的他们听不懂，陆隐简单做了说明。

这段时间他参考了很多国内外光刻机失败案例，最终得出答案，问题就出在这193nm的深紫外光上。

193nm深紫外光一直是郁金香国和西洋国等科技大国用来研发光刻机的光源，但他此时研发的是1nm光刻机，是目前世界上没有任何国家能研发出来的人类极限，故而，这光源自然也不合适了。

想要突破这道极限，就必须要将光源缩短，但193nm深紫外光源已经是目前已知的最先进也是最常用光源，想要找到替代的光源，难上加难。

直到那天他无意中将水洒在手机屏幕上，水滴形成了简易的凹凸面，放大了屏幕上的字体。

换一句话来说，通过在硅晶圆前面添加一层水作为介质，就可以将193nm的光源折射后等效为134nm的波长，从而提高分辨率，就可以成为浸润式光刻机。

理论上，浸润式光刻机可以支持到65纳米制程，一般来说，浸润式光刻机只可以支持到7纳