378.有了林本间，我们的光刻机可以领先世界30年！（2.4合1）（3/6）

‘浸润式光刻技术’研制出来的。

在赵德彬的世界当中，目前，光刻机光源波长在止步于193纳米上，再也没有办法下降，但摩尔定律要继续发展，193纳米这个瓶颈必须要打破。

这是因为，光刻机的光就像刻刀一样在硅片上雕刻电路，当你的芯片越来越小，你的刻刀也必须变小变薄，这就跟不能拿屠龙刀在米粒上雕花是一个道理。

不过，在1991年还不用太愁这个事，目前，实验室里的最先进的芯片制程是05微米，也就是500纳米，而193纳米光源波长的极限是在65纳米的制程以下，这中间少说还有十来年的时间可以想办法。

于是，整个90年代，搞光刻机的最顶尖那撮人，就为了这事犯愁，大家八仙过海、各显神通，捣鼓了好几年，总算是在90年代末期形成了两个路子：

霓康等巨头主张在193纳米的基础上，采用157纳米的f2激光；

而刚成立的evllc联盟口气很大，一上来就要搞ev技术，用仅有135纳米的极紫外光解决这个问题。

这两个方法都很难，但第二个方法基本上就是吹牛逼，对比之下，还是第一个方法靠谱，所以，大家都把希望寄托在157纳米的波长上面，很多公司都投入了重金搞研发，希望能早点做出157纳米的波长抢占市场。

虽然行业中已经达成了共识，但林本间却不这么想。

早在1986年，林本间在研究中发现，当前的微影技术已经进入了瓶颈，很难再向下发展，他提出了一个“浸润微影技术”，并在这个技术上研究了多年。

林本间认为，既然157纳米的波长难做，那干脆就不做，只需要维持着193纳米的波长，在镜头和光刻胶之间加一层水，经过水的折射，光线波长就可以从193纳米变成132纳米，一举突破157纳米的天堑。

这层水，也就是“浸润”这个名字的由来。

传统的技术，就是镜头直接面对晶圆，镜头和晶圆中间只是空气。

虽说林本间从1986年就开始研究浸润式微影技术，但在早期，还有很多方法可用，并不一定需要浸润式这把牛刀，所以浸润式一直是一个冷门的技术，基本上没有引起外界的关注；

浸润式真正引起轰动的是在2002年，当时，关于193纳米下不去这事已经火烧屁股了，林本间受邀到比立时参加“国际微影讨论会”，在会上再次提出浸入式技术，并发表了浸润式设备及操作的示意图。

这一