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第313章,国内的芯片产业(4/4)

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快,巴黎那边的限.制就会放宽的越快。”。

前世在4年这个时候,国内半导体研制所能达到的蕞小精度是5微米水平,国际上已经达到了微米以下精度。95年巴黎的那个委员会规定5微米以下的超大规模集成电路的设备、技术和产品都是要严格对华夏禁限的。

国内突破三微米水平,进入超大规模集成电路时代是在97年。99年将对华夏的半导体技术禁限做了更改,3微米以上的技术就不再对华夏禁了,但是3微米以下、尤其是2微米以下的技术对华夏仍然是严格限.制的。

内地跨上一微米台阶是在99年。此时国际上的微电子研发水平可以达到0.微米。

前世的0年代初,内地和国际的差距大概为6年,即集成度相差倍。

这一世内地在2年下半年得到了天上掉下来的许多馅饼,其中就有芯片技术和设备,这里面甚至有暗中拍的上万小时的日本工程师的操作的录像,这些都是芯片产业核心的东西。芯片产业蕞终比拼的就是制程工艺。

这些获得的珍贵的技术资料,大大缩短了内地微电子技术的发展时间。

季宇宁估计如果今年能够突破.5微米技术,那么内地和国际上的差距,就会缩短到两年左右的时间。

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