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第二十三章高峰实在是太想进步了(1/3)

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光刻机作为芯片产业的核心装备,有人称它为“人类最精密复杂的机器”。

光刻机技术极为复杂,在所有半导体制造设备中技术含量最高。

主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术,生产一台光刻机往往涉及到上千家供应商。

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光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,在半导体工业、PCB、平板显示等领域得到广泛应用。

目前,全球缺芯背景下晶圆厂产能扩张正逐步迎来落地,半导体光刻胶市场需求稳步向上。

光刻胶同样是半导体行业的关键技术之一,属于原材料的一种,而且和光刻机的联系非常密切。

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从一般意义上讲,所有跟电子设备和装备相关的设计,仿真,验证,实验等相关都可以纳入EDA的范畴,类似于CAE。

从纳米级的器件晶体管,到IC集成电路,PCB,显卡,收音机,家用电器,手机电脑,车载电子系统,天线,大型相控阵雷达,其实都和EDA相关。

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医疗器械作为现代医疗卫生体系建设的重要支柱之一,具有高度的战略性、带动性和成长性……

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……

一口气翻了好几个回答,最终高峰找出了它们之中的共性!

光刻机!

这个回答,在很多个这样的问题下面都会频繁出现。

而且根据他所知,现在的社会离不开芯片的支持,任何的智能终端产品都需要搭载芯片,而光刻机就是制造芯片的重要工具。

在芯片制造过程中,需要将设计好的芯片图案复刻在晶圆表面,但即便是28nm,14nm的成熟芯片也会集成几十亿根晶体管。

如何在有限的单位面积内曝光更多的晶体管数量,让每根晶体管纵横交错,甚至在上百个层级中错落有致,这就需要光刻机运用深紫外或极紫外光源来实现了。

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只不过目前全球只有郁金香国的ASML一家公司掌握EUV光刻机量产技术,这也是许多国家争相突破和发展的目标。

但其实,在前两年的时候,他们龙国就已经研究出了7nm的蚀刻机,这意味着国内现在距离成功造出7nm的芯片又近了一步。

只是研究出7nm的蚀刻机依然不行,

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