第876章 “最难”的消息（4/5）

场上应用广泛。

无论是光刻芯片，还是蚀刻电路板，在制造过程中都要对晶圆反复进行冲洗，这时就需要用到湿电子化学品。

种类繁多，譬如蚀刻液、显影液、极性溶液、氢氟酸、硫酸、双氧水、异丙醇等。

这家现在华电旗下的化工用品厂也是一样。

能生产出不少湿电子化学品，卖得还挺好，但都是最差的那种，堪称劣质。

在高端芯片上，基本不能用“想尽一切办法提升技术水平，把制造生产高端光掩膜版作为战略发展目标，总公司那边要钱给钱，要人招人，全力支持，我只有一个要求“在最短的时间内，把技术水平提上去”

同辉公司陪同的几名高管，赶忙应是。

削尖脑袋去钻研呗，还能有什么办法，这位都亲自发话了李建昆暗叹口气，如他所想一样，收购整合这些公司后，的确能倒饰出一些芯片制造材料。

然而，技术不过关。

弄出来的都是很差的那种。

这些公司仍需要大力发展，无底洞式地砸钱他只能这样去安慰自己1质量好不好的，起码有了不少材料可用。

2对于许多材料来说，至少有个研发的底子了，不至于像无头苍蝇。

离开同辉胶卷公司时，华电集团的副总吴博龙，看出大老板心有郁结，思付着说“董事长，我们最近在洽谈收购一家公司，如果成功拿下，能得到一种水准线以上的、芯片制造的关键材料。”

“哦什么“李建昆问。

“光刻胶。

aaa“李建昆“aaa“他瞬间来了精神。

在芯片制造的核心材料中，光刻胶绝对是个研发老大难，或许没有之一。

比如特区华电研究院那边，对此一点头绪都没有。

而像诸如湿电子化学品这类材料，华电研究院其实也有研究。

光刻胶，听起来像一种胶水，事实上差也差不多。

它是一种有机化合物，本身呈液体状，涂在晶圆表面，被紫外光曝光后，在显影溶液中的溶解度会发生变化，而后干燥成胶膜，能将光掩膜版上的图形转移到硅片上。

这玩意儿难就难在，成分极其复杂，制造工艺难以掌握。

光刻胶的主要成份有高分子树脂、色

浆、单体、感光引发剂、溶剂以及添加剂等。

问题是什么溶剂，什么添加剂，都是个谜。

搞明白这些还没有用，你得知道详细配比。

开发所涉及的技术难