第三百一十章 未来的万亿美元市场（1/49）

徐申学调控整个仙女山控股下属的半导体设备，材料研发体系，甚至动用自己的人脉关系，影响力以及其他资源，进而加速了DUV浸润式光刻机的大规模量产。

这让海湾科技的HDUV-400型光刻机的量产速度出现了提升。

“今年，我们将会确保为国内各芯片厂商提供至少五十台HDUV-400光刻机量产型，用于各厂商的芯片生产，同时将会再生产至少五台HDUV-500型光刻机的试产型号，用于智云微电子，中芯两家厂商的的测试，研发工作！”

“为了确保能够做到这一点，我们还将会进一步加大人员的招聘，培养力度！”

海湾科技的CEO王道林，为徐申学如此描绘今年光刻机领域里的生产以及研发情况。

“目前我们已经初步解决了500型光刻机的套刻精度问题，在子系统的测试中已经能够做到稳定三点五纳米的精度，可以支持十四纳米工艺的量产。”

“接下来我们将会试制一台样机进行整机测试，并在第三季度开始交付首台测试样机给智云微电子方面！”

“而更进一步的光刻机研发中，我们正在搞套刻精度两点五纳米，用以未来支持七纳米工艺的600型号，目前虽然还遇到了一些技术难题，不过我们正在加大力度进行转向的技术攻关，我们争取在未来的两年里解决这个技术难题。”

“只要解决这个两点五纳米的套刻的技术难题，那么我们的光刻机就能够进行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技术则是可以用于等效七纳米工艺的大规模量产！”

“尽管我们和ASML还存在一定的技术差距，但是这种技术差距并不是不可跨越的，毕竟我们已经解决了最难的镜片以及光源部分，还解决了双工作台问题，如今我们只需要稳扎稳打，持续的进行技术优化，逐步提升，就能够把这个套刻精度逐步提升起来！”

徐申学道：“如此看来，我们的DUV浸润式光刻机应该是稳了，未来七纳米工艺也问题不大了。”

“那么七纳米工艺以下呢？我们正在搞的600型光刻机能否进一步突破极限，做到等效五纳米的芯片？”

王道林此时道：“七纳米工艺问题不大，而五纳米工艺的话虽然理论上可以通过多重曝光，比如八重曝光，使用现有DUV浸润式光刻机的134纳米波长的光源，也能用来制造等效5纳米工艺的芯片。”

“但是这需要光刻机提供更高的套刻精度，这样才能够在多重曝光的时候，每一次