第37章 nm光刻机，正式开始研发！（3/3）

海中，随着小A声音的出现，一沓厚厚的资料出现在脑中的光晕里。

小主，这个章节后面还有哦，请点击下一页继续阅读，后面更精彩！陆隐手指一点，资料缓缓摊开，漂浮在眼前。

首先就是光刻机的总体结构，大概分为照光系统，掩模台系统，自动对准系统，调平调焦对准系统，框架减震系统……等。

而光刻机的整个结构中，最难的地方在于高精度的光源和光刻胶、镜头、对准技术等。

光刻机的核心难点在于光源技术，特别是极紫外线光刻机的光源技术。

在极紫外线技术出现之前，深紫外线光刻机是主流，它们使用193纳米波长的短波紫外线。

而极紫外线光刻机则使用13.5纳米的极紫外线，这要求极高的精度和稳定性。

另外，光刻胶是光刻过程中的关键材料，其性质和特性对芯片制造有重大影响。

光刻胶的厚度、硬度、粘度等属性都需要精确控制，以实现高精度的图案转移。

镜头技术也很重要，光刻机的镜头需要极高的纯度和精度，以确保图案的精确投影，这涉及到光学误差的控制，要求系统具有极高的精度。

除此之外，还有对准技术。

在光刻过程中，将掩膜上的图案精准对位到硅片上是关键步骤，这需要高精度的光学、机械和计算机控制技术。

此外，光刻机对工作环境要求也是极为严格，光刻机的工作环境必须绝对无尘，以确保芯片生产的精度和质量，同时，工作台必须具有高精度，以确保多次曝光和对准时的高度准确性。

其中的技术成本和难度也是极大的，光是技术领域就涉及光学、机械、电子、计算机等多个领域。

用到的材料和设备成本也是极为高昂，且制造周期极长，总的来说，这是一项比制作激光武器还要精细且费精力的研发。

但，1nm光刻机的研发，势在必行！

这是华国想要解除西方列国科技封锁的重要一步，无论失败多少次，都必须要做到！

一个小时后，陆隐拿着厚厚一沓资料打开了办公室的门。

喜欢小学弟，科研回来我宣你！研回来我宣你！