第258章 遥遥领先（2/5）

场中，满足日益增长的多任务处理需求。

散热系统同样取得了重要突破。

通过优化风扇设计及散热片布局等手段，有效解决了高性能硬件运行所产生的热量问题，确保设备长时间稳定工作而不出现过热现象。

这无疑进一步提升了产品可靠性和使用寿命。

除上述关键部件外，其他配件如键盘、触摸板甚至扬声器等也都有显着改进。

例如，新型键盘按键反馈更清晰、手感舒适；

触摸板灵敏度提高，支持多指手势控制；

扬声器则采用优质音频解码芯片，营造身临其境般的音效环境。

总之，这次产业更新使得兴华科技的电脑产品线在各个方面都得到了质的飞跃。

无论是核心组件还是周边配件，都展现出了卓越的性能和创新精神。

在光刻机方面，兴华科技也取得了历史性的突破。

在张卿雄厚的资金支持下，A**L成功推出了PAS 5500光刻系统，这无疑是公司发展史上的一座丰碑。

当前世界的半导体领域正面临着巨大挑战，光刻机的光源波长卡在了193纳米，迟迟无法突破。

由于水对193纳米光的折射率高达1.44，这意味着当原有的193纳米激光穿过水时，根据光学原理，其波长会被压缩，从而有可能降低许多。

然而，现实情况却并非如此简单。

当时的大多数企业都沉浸在干式光刻机成功的舒适圈内，不愿轻易冒险去尝试新的技术路线，也不愿意打破现有的安稳局面。

这个难题如同一块沉重的石头压在整个行业的心头，持续困扰着世界长达二十余年之久。

直到90年代末，这个问题才会得到解决。

而对于A**L来说，这无疑是一个重要的机遇。

凭借着张卿钞能力的支持，华积电与A**L展开紧密合作，并最终成功地研制出了全球首台利用水折射的沉浸式光刻机。

这一创新成果令人瞩目，其光源波长仅为132纳米，使得光刻机能够实现更高的分辨率。

通过这种浸入式光刻技术，原本看似无法逾越的157nm难关被轻松跨越，直接将芯片制程提升至65nm水平。

相较于之前广泛应用的90nm工艺而言，65nm工艺具有显着优势。

它使得CPU内部能够集成更多数量的晶体管，为处理器赋予更强大的功能和卓越的性能表现。

小主，这个章