第三百一十四章 弯道超车（3/5）

夫·怀特说，他是尼康新上任的e，不知道什么时候坐到了佐藤和小松正志的旁边。

小松正志和佐藤博人都连忙和杰夫·怀特打招呼。

简单的寒暄后，杰夫·怀特说“虽然不想承认，但是新芯在光刻机领域的研发速度远超我们的预计。

其中新芯自身从尼康、佳能挖走大量研发人员是原因之一，他们获得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

对于一套新的光学通路来说，没有蔡司的配合，新芯无论如何也没有办法在短短两年时间做到重构整个物镜光路。”

杰夫·怀特很无奈，当年尼康做出把技术卖给新芯的时候他还不是尼康的e，后来复盘的时候他想过，如果当时他是新芯的e是一定不会把技术卖给新芯的。

远在东京的尼康不会知道nean有多神奇，只有身在硅谷的杰夫·怀特对这一点最有感触，自从nean迅速崛起后，他成为了杰夫·怀特日常生活中听到最多的名人。

三人的闲聊在林本坚上台后戛然而止，大家都想听听新芯的技术路线。

“我们在晶圆光刻胶上方加了一层，利用这层介质把光源的波长缩短到了150n以内。因此在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了na，使得193n波长的能等效出150n以内的波长！”

“同时因为业内大量的芯片制造厂商们，他们会在一个大的硅片上生产大量不同的芯片，浸润式光刻法可以避免高掩模成本”

林本坚在台上通过一些图片和实验结果来展示浸润式光刻机的优越性，讲的非常枯燥乏味，大量的技术内容掺杂着寥寥数笔浸润式光刻机的技术优势。

即便如此，台下来自半导体不同环节的企业代表们没有一个走神，大家都在全神贯注的听着新芯的技术路线。

“我就说浸润式可行，我们不应该在干式光刻机上再投入资金了。

浸润式光刻机才是未来。

我们继续沿着尼康和佳能的技术优势路线投入，那么我们永远都不会有超过佳能和尼康的机会。

而新芯有这样的自信，所以他们短短数年时间，就顺利实现了超越。”

“现在的问题是新芯已经率先在浸润式光刻机上实现了突破，一是他们实现了突破，一步慢，步步慢。

我们拿出类似的浸没式光刻机最快也要一年时间。

一旦新芯把关键技术注册了专利，一年时间都不够，三到五年都是完全有可能的。

推出新设备之后，需要用1到3年的时间由厂商